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光刻機是什么(光刻機的工作原理)

2023-05-18 08:39:01 來源:品質網

光刻機是什么?

光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為:接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

光刻機的工作原理

光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機的制造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,因此,世界上只有少數廠家掌握。

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